Mehrrohr-Thermoprozessofen (MTPF) für Oxidation und LPCVD im PSI PICO Reinraum

Bei der zu beschaffende Anlage handelt es sich um einen Mehrrohr-Thermoprozessofen (MTPF), der für die Abscheidung von Materialien für Quanten-, Photonik- und Röntgenanwendungen der Gruppen in den Laboren LNQ und LXN sowie für alle Nutzer der PSI-Reinräume unerlässlich ist. Der MTPF sollte über eine horizontale Anordnung der Röhren verfügen und in der Lage sein, in einem Durchlauf bis zu 50 Wafer mit einem Durchmesser von 200 mm mit guter Gleichmäßigkeit innerhalb eines Wafers, von Wafer zu Wafer und von Charge zu Charge zu bearbeiten. Die MTPF sollte über eine Automatisierungsoption verfügen, die es ermöglicht, mindestens 4 Wafer-Chargen à 50 Wafer in denselben oder verschiedenen Röhren nacheinander ohne Anwesenheit eines Bedieners zu bearbeiten.   Das MTPF wird mit vier 200-mm-kompatiblen Röhren geliefert: – Röhre 1: thermische Trocken- und Nassoxidation unter atmosphärischen Bedingungen (Quarzröhre bis 1050 °C; optional SiC-Röhre bis 1250 °C); – Röhre 2: LPCVD-Schichten aus stöchiometrischem Si3N4 für photonische Anwendungen und nierdig-verspannten SiNx-Schichten für die Membranenherstellung; – Röhre 3: LPCVD-Schichten aus SiO2 auf TEOS-Basis; – Röhre 4: LPCVD-Schichten aus polykristallinem und amorphem Si.   Die MTPF ist durch die Wand hindurch zu installieren, wobei sich die Beladestation auf der Reinraumseite und die übrigen Komponenten (Öfen, Elektronikschränke, Gasschränke, Pumpen und zugehörige Infrastruktur) auf der Grauraumseite befinden. Sie muss für den 24/7-Betrieb ausgelegt sein, mit einer garantierten Verfügbarkeit von mindestens 90 % und einer Mindestgarantie von 2 Jahren.